Súng ion Argon hoặc Oxygen 5keV dành cho các ứng dụng phân tích bề mặt UHV
Súng ion Argon hoặc Oxygen 5keV dành cho các ứng dụng phân tích bề mặt UHV

IG20

Súng ion Argon hoặc Oxygen 5keV dành cho các ứng dụng phân tích bề mặt UHV

9 ₫

  • Model: IG20
  • Manufacturer: Hiden Analytical

IG20 sử dụng nguồn ion khí tác động electron độ sáng cao được thiết kế đặc biệt cho khả năng hoạt động với oxy nhưng cũng thích hợp sử dụng với các khí trơ và khí khác.

Đặc điểm:

  • Kích thước điểm 100Micron
  • Mật độ dòng điện cao
  • Tương thích với oxy
  • Dump trung tính
  • Quét
  • Dễ dàng thay thế sợi tóc đôi
  • Lắp đặt mặt bích DN35 Conflat

Ứng dụng:

  • Màng mỏng tráng phủ quang học
  • Vật liệu điện tử
  • Vật liệu hạt nhân
Danh mục:

Súng ion nguồn khí độ sáng cao ứng dụng cho SIMS, Auger và XPS Depth Profiling và Vật lý Mặt phẳng

Nguồn ion electron xung kích được thiết kế đặc biệt để tương thích với oxy, ngoài việc hoạt động với khí trơ, và hoạt động liên tục đạt được đồng thời với mật độ dòng điện cao. Chùm ion đồng nhất được định hình rõ ràng về mặt hình học cho phép kiểm soát chính xác tiêu điểm và vị trí chùm, tạo ra một điểm sáng rõ ràng với độ sáng cao.

Súng có đầy đủ điều khiển bằng PC và bao gồm bộ khuếch đại dòng điện mục tiêu với các bộ tạo quét theo dòng và điểm ảnh. Các cài đặt có thể được lưu và gọi lại từ tệp để thiết lập và chuyển đổi tức thời và có thể tái tạo giữa các điều kiện chùm (chẳng hạn như hình ảnh tiêu điểm tốt và làm sạch dòng điện cao).

Đột cong cột 3° và bộ xả trung hòa đảm bảo loại bỏ tối ưu các chất trung hòa.

Mô-đun điều hướng chùm phản ứng nhanh gắn trực tiếp với súng ion cho tốc độ quét tới 64 µgiây, và khi được sử dụng kết hợp với các đầu dò Hiden SIM EQS hoặc MAXIM SIMS, tốc độ quét và diện tích quét có thể được xác định trực tiếp thông qua chương trình điều khiển đầu dò.

Ion Gun
Ion Beam
Energy 0.5 to 5.0 keV
Spot diameter 50 µm – imaging,

100 µm – depth profiling
Current 0.1 to 800 nA
Typical fast etch rate – Si (5 keV Ar 600 nA) 50 nm min-1 (450 µm x 650 µm crater) 
Species Oxygen or inert gases
Deflection Field +/- 4 mm
Ion Source
Type Electron Impact Twin Filament
Electron Emission 0 to 30 mA
Electron Energy 0 to 100 volts
Ion Column
Condenser 3 element lens
Objective 3 element lens
Alignment Independent X and Y alignment plates
Deflection Independent X and Y deflection plates
Fast Neutral Dump 3 degree bend in the ion column
Beam blanking Single deflector plate
Mounting
Port DN-35-CF (2.75″ OD) Conflat type
Port Clearance 35 mm minimum internal diameter
Column Tip to Mounting Flange Distance (optional mechanical adjuster fitted) 242 mm
Column Tip to Sample Working Distance 20 to 80 mm
Differential Pumping
Recommended Pump 50 l/s or higher turbomolecular pump. Suitable for oxygen working if applicable
Mounting flange DN-63-CF (4.5″ OD) Conflat type
Bakeout
Maximum Recommended Temperature 250°C

Ion Gun Control
Control  system PC based running Windows® XP™ with connection via Ethernet, LAN, RS232 or USB.
Deflection Amplifiers
Minimum Sweep Time 64 µs
Flyback Time 15 µs
Beam Blanking
Rise Time 3 µs
Fall Time 3 µs
Displays
PC based control Filament selection, Ion Energy, Emission Current, Electron Energy, Condenser Lens, Objective Lens, Upper X-Align, Upper Y-Align, X-Deflection,

Y-Deflection, X-Scan Amplitude, Y Scan Amplitude.
Diagnostics / measurement Built in diagnostic linescan scan (X and Y), including supplies for electron suppressed beam current measurement and spot shape, (incorporated electrometer displays beam current profile on PC via PC oscilloscope).

A simple line flyback raster generator is also included. Readback of steering voltages and emission current.
Controls Keyboard and mouse control of all beam steering plates, scan amplitudes, offsets and lenses with settings saved to PC for future recall.
External inputs The control unit accepts an external scan input. Separate X and Y gain controls are provided to optimise amplification of the scan signal. External target bias input (max 350V) is switched via the beam diagnostics control.
Power  Requirements 240/220 VAC, 120/110 VAC, 50/60 Hz, 0.25 kVa 
Dimensions
Control Unit 311 mm (12.25″) height, 343 mm (13.5″) deep, 19″ Rack Mounting.
Beam steering module Mounts directly to the ion gun

63 mm (2.5″) x 127 mm (5.0″) x 368 mm (14.5″) length

Hiden SIMS | Analytical Secondary Ion Mass Spectrometry Products

Tải xuống

Đánh giá sản phẩm

Review IG20

5 0% | 0 đánh giá
4 0% | 0 đánh giá
3 0% | 0 đánh giá
2 0% | 0 đánh giá
1 0% | 0 đánh giá
Đánh giá ngay
Đánh giá IG20
Gửi ảnh thực tế
0 ký tự (Tối thiểu 10)
    +

    Chưa có đánh giá nào.

    Chưa có bình luận nào

    Sản phẩm liên quan

    Reecotech cung cấp các sản phẩm và dịch vụ chất lượng cao, góp phần bảo vệ môi trường và phát triển bền vững.

    EPIC 1000 Series

    EPIC / EPIC 1000 Series

    Hệ thống phân tích UHV trung tính, gốc tự do và ion
    tìm hiểu thêm
    RGA Series

    RGA Series

    Hệ thống kiểm tra các thành phần có trong bình chứa hoặc được tạo ra từ một quá trình
    tìm hiểu thêm
    Hệ thống phân tích chùm phân tử XBS RC

    XBS

    Hệ thống giám sát nhiều nguồn trong ứng dụng lắng đọng MBE
    tìm hiểu thêm
    Máy phân tích phổ khối ion thứ cấp được bơm vi sai IMP-EPD

    IMP-EPD

    Máy quang phổ khối cho ứng dụng khắc tia ion
    tìm hiểu thêm
    Máy phân tích khối lượng và năng lượng để nghiên cứu plasma

    PSM

    Máy phân tích khối lượng và năng lượng để nghiên cứu plasma
    tìm hiểu thêm
    Hệ thống phân tích khối lượng tứ cực cho giám sát quá trình và chuẩn đoán chân không

    HMT

    Hệ thống phân tích khối lượng tứ cực cho giám sát quá trình và chuẩn đoán chân không
    tìm hiểu thêm
    Súng ion Argon hoặc Oxygen 5keV dành cho các ứng dụng phân tích bề mặt UHV

    IG20

    Súng ion Argon hoặc Oxygen 5keV dành cho các ứng dụng phân tích bề mặt UHV
    tìm hiểu thêm
    Hệ thống phân tích khí HPR-20 TMS

    HPR-20 TMS

    Hệ thống phân tích khí chuyên nghiệp để phân tích các thay đổi thành phần khí nhanh chóng
    tìm hiểu thêm